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自主工艺及可靠性CAE软件开发

    概述

    半导体制造工艺技术难点多,操作复杂,是整个半导体制造的核心,由于半导体工业复杂性以及快速变化,半导体制造工艺及可靠性中的多场多尺度耦合问题一直未得到广泛研究。半导体企业在进行工艺变革和调整中还主要依赖于试错方案(Trial-and-Error)以及实验设计(DOE)。目前相关的自主仿真软件严重缺失。

    目标

    从热-电-力耦合的基本原理出发,结合半导体制造工艺及可靠性的特性,建立对应的模型,提供热分析、力分析、电磁分析以及跨尺度及多场耦合分析。

工艺及可靠性仿真

    概述

    将各种不确定性因素引入到仿真模型中来,利用多种不确定性量化手段,实现对产品性能响应不确定性的度量,并且找出关键不确定性因素,通过控制这些不确定性因素达到提高产品可靠性水平的目的。

    目标

    随着芯片特征尺寸不断微缩,先进封装能够有效缓解信号传输过程中失真、串扰、功耗以及可靠性等问题。面对器件封装结构高复杂化、异质异构集成化的发展要求,封测企业面临在不影响良率及可靠性下,将更多异质异构的Chiplet芯片系统集成挑战。因此,在前道芯片设计及后道芯片封装中,需要基于Co-design的仿真计算,为器件功能的实现提供解决方案。

半导体材料数据库

    概述

    与芯片制造-封测工艺及可靠性模型相统一的材料数据库,芯片制造-封测材料数据库能够供应各种材料数据。

    目标

    提供先进芯片制造-封装工艺热分析、力分析、电磁分析以及他们的多尺度及多场耦合仿真所需的基础(本构)数据服务。

综合测试平台

    概述

    先进芯片材料及工艺集成测试平台能够对各类芯片材料进行精确的分析和测试。具体测试服务价格请查看产品案例中的材料参数测试价格表文件。同时,平台还集成了多种工艺测试手段,可以全面评估芯片在制造过程中的性能表现。通过这一平台,武创芯研科技能够为客户提供从芯片材料选择、工艺优化到成品质量控制的全方位服务。

    目标

    提供全面的材料表征手段应对从样品制备、表面到基材、从主成分到微量元素的分析需求,为先进芯片新材料研发、电子制造等前沿研究提供材料研究—表征—制备—测试—加工等综合性技术服务。

    新材料研发

  • 芯研科技将传统材料学与新兴人工智能和大数据技术相融合,通过构建高通量与多尺度计算,开发基于机器学习的材料快速性能预测方法及模型,实现更高精度、更大尺度的分子层面模拟计算以及开展上万级任务并发的高通量材料筛选等工作,从而提高电子领域新材料的设计与研发。

    新器件设计

  • 面向智能应用场景算力、高能效需求,芯研科技可提供新材料、器件研发的仿真解决方案,并提供集成工艺方法。 依托于芯研科技自有的新器件开发和验证经验,可为客户深度定制新型MEMS器件、光学器件开发解决方案。

    半导体装备研制

  • 半导体装备种类众多,并且高度复杂,每类装备均涉及多物理场相互作用,为保证半导体材料及器件性能,需对各类装备进行优化设计。芯研科技可提供定制化装备设计优化解决方案,包括:MPCVD腔室等离子体、电场、电子分布;MOCVD腔室流场均匀性、温度场均匀性分布以及半导体薄膜互联系统等全系列装备性能优化设计方案。

    智能产线优化

  • 芯研科技基于电子制造多装备接入、智能感知的混合键合真空互连等产线系统,提供环境、工艺、产品组件和缺陷耦合的数字孪生模型,实现电子产品智能产线关键工艺过程的建模仿真及优化,探索变形、应力及缺陷的形成机理及调控策略。

    关于芯研

    ABOUT IC RESEARCH


    极致技术,价值共享

          武创院芯片制造协同设计研究所自2023年2月成立于武汉东湖高新区,聚焦国家半导体芯片集成工艺及可靠性关键核心技术攻关、成果转化与产业孵化。
          武创芯研科技(武汉)有限公司作为武创院芯片制造协同设计研究所的实体运营单位,是湖北省第一个集自主CAE软件、芯片封装工艺可靠性模型以及材料本构数据库开发为一体的新型研发机构。